马来酸酐用法,棕红色

聚马来酸酐HPMA反渗透中使用的一种普通阻垢剂成分，但随着阻垢剂的出现，用量已经大大减少了。SHMP的使用有一些限制。每2－3天要配制一次溶液，因为暴露在空气中会水解，发生水解后不仅会降低阻垢效果，而且还会造成磷酸钙结垢的可能性。使用HPMA可减少碳酸钙结垢

一家集研发、生产和销售为一体的规模化水处理药剂生产商，公司自设立以来，主营业务一直为水处理药剂的研发、生产和销售。
公司是国内少数大规模生产水处理药剂的厂家之一，自主研发了水处理药剂连续化制备工艺关键技术，改变了传统的间歇式单釜操作生产方式。在聚合物生产中，通过水相有机合成技术，不使用有机溶剂，提升了产品收率及质量，降低了产品能耗，减少了挥发性有机化合物排放，实现了产品的绿色合成。
公司产品有阻垢缓蚀剂、阻垢分散剂、杀菌灭藻剂、螯合剂、粘泥剥离剂、清洗预膜剂、除氧剂、反渗透阻垢剂、清洗剂以及杀菌剂等，可以满足多样化水处理化学药剂的需求。
公司产品主要包括3大系列60余种，其中HPMA、PASP、PESA、PAA、PAAS、AA-AMPS、1227和快速渗透剂T等为主要的不含磷水处理药剂，其他产品属于含磷药剂。

采用静态阻垢法评估了几种聚合物对碳酸钙垢和硫酸钙垢的阻垢性能，结果分别见图1 和图2。 由实验结果可以看出，几种聚合物对CaCO3 和CaSO4垢均具有较好的抑制作用；随加药浓度的增大， 聚合物对两种无机垢的抑制作用增强。对于阻CaCO3垢，HPMA 的抑制能力较强，其次是PAA，T-225 的性能与PAA相当，POCA与AA-AMPS 共聚物性能相当，较PAA 差。对于阻CaSO4 垢，POCA 和AA-AMPS在低浓度时就表现出良好的抑制作用，性能好，其次是T-225，当加药量大于10mg/L后HPMA 的性能与T-225相当，PAA的性能相对比HPMA 差。该实验结果与循环水系统现场实际使用效 果是一致的。

有机阻垢剂分子中呈负电性的功能基团可能会与难溶钙盐表面上带有正电的钙离子通过库仑静电势相互作用，但由于CaCO3 晶体和CaSO4 晶体每一个晶面上的Ca-Ca 严格按照一定 的生长规律排列，只有当有机阻垢剂分子中功能基的空间尺度与晶面金属离子的间距匹配时，才会产生 的吸附行为，从而阻塞成垢离子的进一步沉积而抑制晶体的生长发育。

结论：①总体呈电中性的五种聚合物分子中，羧基氧原子所带 的负电荷较多，容易与无机垢晶体生长面上的Ca2+之间形成库仑相互作用；同时，AA-AMPS 共聚物中， 磺酸基团的三个氧原子所带负电荷分别为−0.8815，−0.8531 和−0.6620，POCA 分子中膦酰基基团上的三 个氧原子的负电荷分别为−0.8785，−0.6954 和−0.7512；磺酸基团的三个氧原子所带负电荷分别为−0.8773， −0.8580 和−0.6685，远比羧基氧原子上的负电荷多，从而提高了原子之间的亲和力，使POCA和AA-AMPS 共聚物的抗氧化能力、抗水解能力、耐温性能以及对锌离子的稳定性能等比单纯的聚丙烯酸有较大的改 善，这与实验结果是一致的。

HPMA 分子中有多个氧原子对的间距与方解石{104}、{102}及{001}晶面上近邻钙离子对的间 距接近，且聚合物分子本身又具有一定的柔性，所以分子中的多个羧基氧原子都极易成为阻垢剂与晶面 作用的吸附位，从而能有效地阻止这些晶面的继续生长，或使晶格发生扭曲畸变而生成松软的垢，易于 被水流冲走，达到阻垢效果。PAA、T-225分子中有三对氧原子对的间距与方解石晶面上的近邻钙离 子对的间距接近，从原子对匹配效果来看，三种聚合物分子均为CaCO3 垢良好的阻垢剂，其中HPMA 的吸附位多，匹配效果好，对CaCO3 的阻垢效果好。大量实验也证实，HPMA 中羧酸基团的密 度较高，有利于提高对CaCO3 的抑制作用。

几种聚合物中均有氧原子对的空间距离接近0.8nm，与二水硫酸钙的（110）晶面的近邻钙离子对的间距接近，因此这几种聚合物对二水硫酸钙都有一定的抑制能力，比较吸附位的数目和匹配效果， POCA 和AA-AMPS共聚物对硫酸钙的抑制效果好。理论计算结果与实际评价的结论是一致的。